電子工業用氣體 硅烷SiH4GB/T 15909-2009
[預覽]2009-10-30發布 2010-05-01實施
[pdf格式]
1.范圍
本標準規定了硅烷氣體的技術要求、試驗方法以及包裝、標志、貯運及安全。
本標準適用于電子工業中多晶硅和單晶硅外延淀積、非晶硅薄膜淀積等。
分子式：SiH4。
2009-10-30發布 2010-05-01實施
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1.范圍
本標準規定了硅烷氣體的技術要求、試驗方法以及包裝、標志、貯運及安全。
本標準適用于電子工業中多晶硅和單晶硅外延淀積、非晶硅薄膜淀積等。
分子式：SiH4。